浙江大学电气工程学院导师：王国雄 正文

　　姓名：王国雄
　　性别：男
　　所在学院：电气工程学院
　　职称：副教授

　　工作研究领域：
　　从事超深亚微米IC版图精确设计与验证技术研究；
　　现从事国家科技重大专项的管理。

　　发表论文：
　　1．深亚微米标准单元库的可制造性设计　半导体技术32<9>, 20070918李宁，王国雄
　　2．一种低存储需求的二维DWT VLSI结构设计方法　电路与系统12<3>, 20070601金文光，王国雄，杨崇朋
　　3．传输透明的SOC总线低功耗环算法　浙江大学学报工学版41<2>, 20070201沈海斌，王国雄，赵旭鑫，胡国兴
　　4．深亚微米下芯片电源网络的设计与验证　电子器件29<4>, 20061201　樊俊峰，王国雄，沈海斌，楼久怀
　　5．Methodology of Verification for Manufacturability in Sub-wavelength Design亚波长设计中可制造性验证方法研究　半导体学报<>, 20060530　王国雄,严晓浪
　　6．集成电路人才培养的探索与实践　教育发展研究<9>, 20050931　王国雄
　　7．用于提高光刻分辨率的光学成像算法的研究　半导体技术30<9>, 20050901　王国雄,王雪洁
　　8．成品率驱动的光刻校正技术　半导体技术30<6>, 20050601　王国雄
　　9．PLC与变频器在巷道堆垛式立体车库控制系统中的应用　起重运输机械<2>, 20050201　王雪洁,王国雄
　　10．用于提高光刻分辨率的光学成像算法的研究　半导体技术30<9>, 2005-07-01
　　11．成品率驱动的光刻校正技术　半导体技术30<6>, 2005-04-01
　　12．Design and implementation of model-based optical correcting system基于模型的光学校正系统的设计与实现　浙江大学学报（工学版）38<5>, 20040501　王国雄，严晓浪，史峥，陈志锦
　　13．A Fast Method to Calculate Sparse Aerial Image Intensity for Lithography Simulation用于光刻模拟的快速计算稀疏空间点光强的方法　计算机辅助设计与图形学学报15<7>, 20030701　王国雄，史峥，严晓浪，陈志锦，高根生，熊军
　　14．一种基于SPLAT的离轴照明成像算法的研究与实现　微电子学33<3>, 20030601　付萍，王国雄，史峥，陈志锦，严晓浪
　　15．A Kernel-based Convolution Method to Calculate Sparse Aerial Image Intensity for Lithography Simulation 一种基于卷积核用于光刻模拟的计算稀疏空间点光强的方法　半导体学报24<4>, 20030401　Shi Zheng,Wang Guoxiong,Yan Xiaolang,Chen Zhijin,Gao Gensheng
　　16．Variable threshold resist models for fast OPC用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型　浙江大学学报（工学版）36<6>, 20021101　王国雄，史峥，严晓浪，陈志锦，付萍
　　17．A New Mehtod of 2D Contour Extraction For Fast Simulation of Photolithography Process一种快速光刻模拟中二维成像轮廓提取的新方法　半导体学报23<7>, 20020701　陈志锦，史峥，王国雄，付萍，严晓浪
　　18．一种适于快速OPC的精确光刻剖面仿真算法　微电子学32<3>, 20020601　王国雄，史峥，付萍，陈志锦，严晓浪

　　工作研究项目：
　　SOC系统芯片测试技术开发　企事业单位委托科技项目 2008-05-31
　　机器学习加速技术研究　国际合作项目 2009-06-30
　　集成电路与SOC联合实验室　20071231
　　单片多模式多输出电源管理集成电路的研究　20071231
　　集成电路人才培养体系的探索与实践　20071231
　　中欧SoC 教育研究中心　20070901
　　0.09微米可制造性版图校正及验证方法　20051231
　　浙江省集成电路设计公共技术平台　20061201
　　带有可扩展DSP平台的高性能低功耗嵌入式CPU研究　20060701
　　从行为级到版图级的设计验证与测试生成　国际合作项目 20061231
　　基于超深亚微米物理级优化的SOC CAD技术　20031231
　　系统芯片设计方法及其EDA关键技术研究　自选课题 20041231
　　基于光学校正的超深亚微米IC版图精确设计技术研究　浙江大学 20041231

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